光ディスク保護膜形成スパッタリングターゲット

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小越勇 , 木下洋平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-188104
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011615
特許番号：特許第3894403号
出願日： 1999年07月01日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ZnS-SiO2-ZnOの三成分系状態図において、ZnS:SiO2:ZnOのモル比が、それぞれ80:10:10(A点)、47.5:5:47.5(B点)、25:25:50(C点)、5:47.5:47.5(D点)、25:50:25(E点)、47.5:47.5:5(F点)であるA〜Fで囲まれる範囲にあることを特徴とするZnS-SiO2-ZnOの三成分系材料からなる光ディスク保護膜形成スパッタリングターゲット。

IPC (2件)：