リソグラフィ・レーザ用プロセス監視システム

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (10件)：中村稔 , 大塚文昭 , 熊倉禎男 , 宍戸嘉一 , 竹内英人 , 今城俊夫 , 小川信夫 , 村社厚夫 , 西島孝喜 , 箱田篤
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-086381
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015986
特許番号：特許第3541183号
出願日： 2001年02月16日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも1つの集積回路製造設備におけるリソグラフィ・レーザを監視するためのシステムであって、A)集積回路リソグラフィ・プロセスにおいて照射源として使用するよう構成されている複数のレーザと、B)前記複数のレーザの各々の1つに接続される端末サーバーと、C)前記各々のレーザからデータを収集し、前記データの少なくとも一部分を未処理形式および/または要約形式で格納するようにプログラムされており、ローカル・エリア・ネットワークを経由して前記複数のレーザと前記端末サーバを介して通信する中央製造設備サーバー装置と、D)前記中央製造設備サーバーと、前記中央製造設備サーバーに格納された情報へのアクセス許可をもつ者によって利用されるコンピュータとの間の通信ネットワークを経由して通信を提供するリモートサーバー装置とを備え、前記中央製造設備サーバーを介して前記リモートサーバーにより、前記端末サーバーに接続された前記リソグラフィ・レーザの状態をほぼリアルタイムで遠隔監視することができることを特徴とするシステム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G05B 23/02

FI (5件)：

H01L 21/30 515 B , G03F 7/20 521 , G05B 23/02 301 W , G05B 23/02 301 X , H01L 21/30 502 G

引用特許：

出願人引用 (10件)

露光装置システムおよびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-160640 出願人：キヤノン株式会社
露光装置、データ管理方法およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-207089 出願人：キヤノン株式会社
製造工程支援システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-329926 出願人：川崎重工業株式会社

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審査官引用 (12件)

特開平4-305913
特開平4-305913
製造工程支援システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-329926 出願人：川崎重工業株式会社

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