特許
J-GLOBAL ID:201103030948507366
溶射用粉末
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
木下 茂
, 石村 理恵
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-296781
公開番号(公開出願番号):特開2011-137194
出願日: 2009年12月28日
公開日(公表日): 2011年07月14日
要約:
【課題】溶射被膜形成時の形状安定性や流動性に優れ、未溶融部分が低減された緻密な溶射被膜を形成することができる溶射用粉末を提供する。【解決手段】全体として球状に形成されるとともに、その外周面の一部に凹部が形成された溶射用粒子からなる溶射用粉末であって、前記溶射用粒子におけるアスペクト比分布の90%D90が1.5以下、嵩密度が1.0g/cm3以上1.5g/cm3以下、溶射用粒子における50%粒子径D50の粒子直径が10μm以上50μm以下であり、全粒子の70%以上が凹部を有し、前記凹部の凹部直径比が50%以上70%以下であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
全体として球状に形成されるとともに、その外周面の一部に凹部が形成された溶射用粒子からなる溶射用粉末であって、
前記溶射用粒子におけるアスペクト比分布の90%D90が1.5以下、嵩密度が1.0g/cm3以上1.5g/cm3以下、溶射用粒子における50%粒子径D50の粒子直径が10μm以上50μm以下であり、
全粒子の70%以上が凹部を有し、前記凹部の凹部直径比が50%以上70%以下であることを特徴とする溶射用粉末。
IPC (3件):
C23C 4/04
, C23C 4/10
, C04B 41/87
FI (3件):
C23C4/04
, C23C4/10
, C04B41/87 K
Fターム (5件):
4K031CB02
, 4K031CB03
, 4K031CB18
, 4K031CB42
, 4K031DA04
引用特許:
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