特許
J-GLOBAL ID:200903091991783955
溶射用粒子、および該粒子を用いた溶射部材
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 隆司 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-102205
公開番号(公開出願番号):特開2002-363725
出願日: 2002年04月04日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】 高融点の希土類元素含有化合物を用いても密着性の高い溶射被膜を形成できるとともに、純度の高い希土類元素含有化合物溶射用粒子を提供すること。【解決手段】 平均粒径が3〜100μm、分散指数が0.5以下、アスペクト比が2以下の多面体形である希土類元素含有化合物溶射用粒子。
請求項(抜粋):
平均粒径が3〜100μm、分散指数が0.5以下、アスペクト比が2以下の多面体形であることを特徴とする希土類元素含有化合物溶射用粒子。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (12件):
4K031AA06
, 4K031AB02
, 4K031AB11
, 4K031CB01
, 4K031CB02
, 4K031CB16
, 4K031CB17
, 4K031CB18
, 4K031CB42
, 4K031DA01
, 4K031DA04
, 4K031EA08
引用特許:
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