特許
J-GLOBAL ID：201103031125222370

露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
大内 千種

大内 千種 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (3件)： 大塚 康徳 ,  丸山 幸雄 ,  大塚 康弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-344356
公開番号（公開出願番号）：特開2002-151388
特許番号：特許第3862497号
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 連続発振レーザから出力されるレーザ光でレチクル上のパターンを照明する照明光学系と、該照明されたパターンを露光対象物体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、 前記連続発振レーザから出力されるレーザ光を利用するフィゾータイプの干渉計を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G01M 11/02 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G03F 7/22 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 515 D ,  G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22 H
引用特許：
審査官引用 (4件)
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