特許
J-GLOBAL ID：201103031455522125
露光装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-066878
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260704
特許番号：特許第4323608号
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 観察光学系と原版表面もしくはこの原版の像を投影される基板の表面またはステージ基準マークとの相対位置関係を前記観察光学系の光軸方向に変化させながら、前記原版もしくは基板の表面または前記ステージ基準マークを観察することにより、最適フォーカス位置を計測するフォーカス計測手段を有する前記観察光学系を備えた露光装置であって、
前記フォーカス計測手段により前記最適フォーカス位置を計測したときのフォーカス値を記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された前記最適フォーカス位置において前記フォーカス計測手段を用いて前記フォーカス値の計測を行わせ、該フォーカス値と前記記憶手段に記憶された前記フォーカス値との差が所定値を超えたか否かを以って前記フォーカス計測手段による前記最適フォーカス位置の計測を行なうか否かを制御する制御手段を具備することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 9/02 ( 200 6.01)
H01L 21/30 526 B
, G03F 9/02 H
