特許
J-GLOBAL ID：201103031831987525
ポジ型ホトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外4名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-226526
公開番号（公開出願番号）：特開2001-051411
特許番号：特許第3499160号
出願日： 1999年08月10日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)感光性成分、および(C)感度向上剤(増感剤)を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物において、(A)アルカリ可溶性樹脂は、m-クレゾール、p-クレゾール、2,3,5-トリメチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮合反応により得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂であり、(B)感光性成分は、下記一般式(III)で表されるポリフェノール化合物のキノンジアジドエステル化物の中から選ばれる少なくとも1種を含有し、該キノンジアジドエステル化物の平均エステル化率は40〜60%であり、(C)感度向上剤(増感剤)は、ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)-2-ヒドロキシフェニルメタン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,4-ジヒドロキシフェニルメタン、2,4-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニルメチル)-6-メチルフェノール、4,6-ビス〔1-(4-ヒドロキシフェニル)イソプロピル〕レゾルシン、1-〔1-(4-ヒドロキシフェニル)イソプロピル〕-4-〔1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エチル〕ベンゼンの中から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。;;化1::
IPC (3件)：
G03F 7/022
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
G03F 7/022
, G03F 7/004 503 Z
, G03F 7/039 501
