特許
J-GLOBAL ID:201103031879082699
ペリクルフレームおよびこれを用いたリソグラフィー用ペリクル
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
好宮 幹夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-102688
公開番号(公開出願番号):特開2000-292910
特許番号:特許第4100813号
出願日: 1999年04月09日
公開日(公表日): 2000年10月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 粘着剤を塗布して露光用原版に貼り付けるペリクルフレームにおいて、該ペリクルフレームの底面に形成された粘着剤層が、底面全周に亘って内側から障壁となる構造までを覆うように設けられたものであることを特徴とするペリクルフレーム。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
審査官引用 (5件)
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ペリクルフレーム及び半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-174122
出願人:セイコーエプソン株式会社
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特開平4-342257
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特開昭63-104058
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ペリクル
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-035536
出願人:信越化学工業株式会社
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マスク保護装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-208227
出願人:三井化学株式会社
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