特許
J-GLOBAL ID：201103032149268408

基板熱処理装置

発明者：
辻 雅夫

辻 雅夫 について

, 
福冨 義光

福冨 義光 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-130321
公開番号（公開出願番号）：特開2001-313328
特許番号：特許第3979764号
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板を載置して熱処理を施す基板熱処理装置において、 基板を載置する載置面の下部に内部空間を有する偏平部と、偏平部の下面に形成され、前記内部空間に連通した作動液室とを有するヒートパイプ構造の載置台と、 前記載置台内で作動液を加熱する加熱手段と、 前記載置台に付設されて前記載置台内の作動液の蒸気を冷却する冷却手段と、 前記冷却手段に冷却媒体を供給する供給配管と、 冷却時にのみ前記供給配管に冷却媒体を流通させ、冷却温度に対して所定の偏差内にまで温度が低下した場合には前記供給配管への冷却媒体の供給を停止させる制御手段と、 を備えていることを特徴とする基板熱処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/683 ( 200 6.01) ,  F24F 5/00 ( 200 6.01) ,  F25D 9/00 ( 200 6.01) ,  F27D 5/00 ( 200 6.01) ,  F27D 9/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (6件)：
H01L 21/68 N ,  F24F 5/00 101 Z ,  F25D 9/00 B ,  F27D 5/00 ,  F27D 9/00 ,  H01L 21/30 567
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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