特許
J-GLOBAL ID：201103032269260982

塗布装置及び塗布方法

発明者：
宮本 英典

宮本 英典 について

, 
丸山 健治

丸山 健治 について

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平川 忠彦

平川 忠彦 について

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三隅 浩一

三隅 浩一 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-207141
公開番号（公開出願番号）：特開2011-056359
出願日： 2009年09月08日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：
【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布を行う塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバと、前記チャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方を調整する調整部と、前記チャンバ内への異物の侵入に応じて前記塗布部の動作を停止させる制御部とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、 前記塗布部によって前記液状体の塗布を行う塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバと、 前記チャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方を調整する調整部と、 前記チャンバ内への異物の侵入に応じて前記塗布部の動作を停止させる制御部と を備えることを特徴とする塗布装置。
IPC (4件)：
B05C 15/00 ,  B05D 3/04 ,  H01L 21/288 ,  H01L 31/04
FI (4件)：
B05C15/00 ,  B05D3/04 Z ,  H01L21/288 Z ,  H01L31/04 E
Fターム (28件)：
4D075BB56X ,  4D075BB56Y ,  4D075BB56Z ,  4D075BB79X ,  4D075BB79Y ,  4D075BB79Z ,  4D075BB91X ,  4D075BB91Y ,  4D075BB91Z ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB31 ,  4D075DC19 ,  4D075EA05 ,  4D075EC10 ,  4F042AA07 ,  4F042BA12 ,  4F042DE06 ,  4F042DE07 ,  4M104BB04 ,  4M104BB36 ,  4M104DD51 ,  5F051AA10 ,  5F051BA14 ,  5F051CB13 ,  5F151AA10 ,  5F151BA14 ,  5F151CB13
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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