特許
J-GLOBAL ID:201103032384075960

水素化処理用触媒並びに水素化処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 高木 千嘉 ,  西村 公佑 ,  新井 信輔
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-017669
公開番号(公開出願番号):特開2000-210565
特許番号:特許第4303820号
出願日: 1999年01月26日
公開日(公表日): 2000年08月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 触媒基準で3.5重量%以上のシリカを含有する多孔質のシリカ-アルミナ担体に、 (x) 周期表の第VIA族金属の酸化物が7〜20重量%、 (y) ニッケル、コバルト、鉄から選ばれる金属の酸化物が0.5〜6重量%、及び (z) 周期表の第IA族金属の酸化物が0.1〜2重量% 担持され、且つ触媒の (a) 比表面積が150m2/g以上、 (b) 全細孔容積が0.55ml/g以上、 (c) 直径が100〜200Åの細孔の容積の割合が全細孔容積の30〜80%、及び (d) 直径が1000Å以上の細孔の容積の割合が全細孔容積の5%以上 であることを特徴とする重質炭化水素油の水素化処理用触媒。
IPC (2件):
B01J 23/88 ( 200 6.01) ,  C10G 45/08 ( 200 6.01)
FI (2件):
B01J 23/88 M ,  C10G 45/08 A
引用特許:
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る