特許
J-GLOBAL ID:201103032964884814

めっき装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 熊谷 隆 ,  高木 裕
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-225308
公開番号(公開出願番号):特開2000-319797
特許番号:特許第3639151号
出願日: 1999年08月09日
公開日(公表日): 2000年11月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】 めっき槽を具備し、該めっき槽で被めっき基板のめっき面にめっき液を接触させて金属めっきを施すめっき装置において、 前記めっき槽は、めっき面を下向きにして配置した前記被めっき基板とその下方に所定の間隔を設けて対向して配置された多孔板との間に形成されためっき液室と、該多孔板の下方に形成された偏平なめっき液導入室と、該めっき液導入室にめっき液を流入させる複数のめっき液ノズルを設け、該めっき液ノズルから前記めっき液導入室に流入するめっき液の流入方向は水平で且つ該めっき液導入室の中心から偏心しており、該めっき液導入室に流入しためっき液は前記多孔板の多孔を通して前記被めっき基板のめっき面に垂直なめっき液の流れを形成して前記めっき液室に導くように構成されていることを特徴とするめっき装置。
IPC (4件):
C25D 17/00 ,  C23C 18/38 ,  C25D 7/12 ,  H01L 21/288
FI (4件):
C25D 17/00 B ,  C23C 18/38 ,  C25D 7/12 ,  H01L 21/288 E
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)

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