投影電子ビーム・リソグラフィ・マスク

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂口博 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-370287
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189271
特許番号：特許第3470963号
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】膜層と、前記膜の外側領域を支持する周縁支持部と、前記支持部に接続され、並びに、前記膜層を支持し及び集積回路の設計領域に位置合わせされて、複数の縦横比の、複数の個別膜領域を形成して取り囲む支持ストラットと、前記個別膜領域内部の前記膜層内又は上に、集積回路設計領域内部の設計要素に対応するパターンを提供するための手段とを備えた、フォトリソグラフィ・マスク。

IPC (2件)：