特許
J-GLOBAL ID:201103033701905287

流量制御弁とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 恩田 博宣
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-163998
公開番号(公開出願番号):特開2000-283314
特許番号:特許第3586136号
出願日: 1999年06月10日
公開日(公表日): 2000年10月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】流体通路の開度を変更するための弁体を有し、コイルの通電に際し弁体を所望とする量だけ移動させて流体流量を比例制御する流量制御弁において、コイルの通電に伴い弁体を移動させるためのアーマチャと、アーマチャよりも径の大きな孔部を有し、コイル通電時にアーマチャを吸引する第1のステータ部材と、同じくアーマチャよりも径の大きな孔部を有し、磁束を周回させるようにアーマチャに対向して設けられる第2のステータ部材と、第1及び第2のステータ部材の各孔部を連通しつつ当該両ステータ部材間に挿入される、非磁性材料からなる挿入部材と、 第1又は第2のステータ部材の何れかに設けられて、弁体を摺動可能に収容するケース部材が組み付けられる前記孔部に同軸の凹部とを備え、 前記凹部は、第1及び第2のステータ部材及び挿入部材の各孔部を加工した後それに引き続き加工されるものであり、該加工された凹部によって前記ケース部材が位置決めされることを特徴とする流量制御弁。
IPC (1件):
F16K 31/06
FI (3件):
F16K 31/06 305 E ,  F16K 31/06 305 G ,  F16K 31/06 340
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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