特許
J-GLOBAL ID:201103033806699321

1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタンの製造方法およびその製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大石 治仁
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-062364
公開番号(公開出願番号):特開2001-247494
特許番号:特許第4306081号
出願日: 2000年03月07日
公開日(公表日): 2001年09月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 1-クロロヘプタフルオロシクロペンテンを過剰の水素ガスを用いて水素化する1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタンの製造方法であって、前記水素化反応の反応混合物を得る工程と、 前記反応混合物を、3〜10kg/cm2(0.3MPa〜1MPa)の圧縮圧力で圧縮して、水素ガス及び1,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンを単離する工程と、 前記単離した水素ガス及び1,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロシクロペンテンを再度水素化反応に供する工程を有することを特徴とする1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタンの製造方法。
IPC (3件):
C07C 17/354 ( 200 6.01) ,  C07C 23/08 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
C07C 17/354 ,  C07C 23/08 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (8件)
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