特許

J-GLOBAL ID：201103034185819600

処理液の濃度を変更する方法及び処理液供給装置

発明者： 大久保 敬弘 ,  宮本 博之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-134103
公開番号（公開出願番号）：特開2002-329657
特許番号：特許第3704054号
出願日： 2001年05月01日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板に供給される処理液の濃度を変更する方法であって, 基板に処理液を供給する処理液供給部に接続されたタンク内の既存の処理液の液量を測定する工程と, 当該測定値に基づいて,前記タンク内の処理液が所望の液量でかつ濃度になるための,前記タンク内から排出すべき既存の処理液の最小限の排出量と,前記タンク内に供給すべき所定濃度の処理液又は希釈液の供給量とを算出する工程と, 前記タンク内から前記排出量分の既存の処理液を排出する工程と, 前記タンク内に前記供給量分の所定濃度の処理液又は希釈液を供給する工程とを有し, 前記処理液供給部から供給される処理液が前記所定濃度になるまで,前記処理液供給部から処理液を試し出し, 前記タンク内に前記所定濃度の処理液を供給する場合は,前記タンクと前記処理液供給部とを接続する配管内に所定濃度の処理液を供給して,前記処理液供給部から処理液を試し出しし,前記タンク内に前記希釈液を供給する場合は,前記配管内に前記希釈液を供給して,処理液供給部から処理液を試し出しすることを特徴とする,処理液の濃度を変更する方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30

FI (2件)：

H01L 21/30 569 E ,  G03F 7/30 501

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 現像液製造装置及び現像液製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-030020   出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社, ナガセシィエムエステクノロジー株式会社, ナガセケムテックス株式会社
• 現像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-321870   出願人：東京応化工業株式会社
• 現像液調合装置及び現像液の調合方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-066027   出願人：住友化学工業株式会社
• 現像装置および現像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-134585   出願人：株式会社東芝