特許

J-GLOBAL ID：201103034675375742

イオン注入装置内でイオンビームを監視および調整するための装置及び方法

発明者： ホルメス, アンドリュー, ジェームス, ティモシ ー ,  ブルジン, デイビッド, リチャード ,  ポヴァール, サイモン ,  アルモール, デイビッド, ジョージ ,  アーノルド, ドリュー
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  山田 行一 ,  鈴木 康仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-592850
特許番号：特許第4421780号
出願日： 1999年12月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ターゲット基板にイオンを注入するためのイオン注入器であって、 イオンが内部で形成されるアークチャンバを備えるイオンソースと、 前記イオンソースからイオンを抽出するとともに抽出イオンのビームを形成するためのイオンビーム抽出アセンブリであって、前記抽出イオンのビームの方向を制御可能に操向するための操向手段を含む、イオンビーム抽出アセンブリと、 を備え、 前記アークチャンバは、前記アークチャンバからイオンを抽出できる出口開口部を含む前面を有し、前記前面は第1電極を画成し、 前記操向手段は、前記第1電極に隣接する操向用電極であって、前記イオンビームが通過できる操向用電極開口部を中間に画成する第1と第2の電気的に隔離された電極部材を有する前記操向用電極を備え、前記操向手段は更に、第1電圧を前記第1電極部材に印加するとともに第2電圧を前記第2電極部材に印加するための電圧発生器とを備え、 前記第1及び第2電圧は、抽出バイアスを前記操向用電極に印加し、 前記第1と第2電圧間の差によって前記イオンビームの方向を制御可能に操向する、 イオン注入器。

IPC (5件)：

H01J 37/317 ( 200 6.01) ,  C23C 14/48 ( 200 6.01) ,  H01J 37/04 ( 200 6.01) ,  H01J 37/147 ( 200 6.01) ,  H01L 21/265 ( 200 6.01)

FI (6件)：

H01J 37/317 A ,  C23C 14/48 B ,  H01J 37/04 B ,  H01J 37/147 D ,  H01L 21/265 T ,  H01L 21/265 603 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-190839
  
• イオン源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-107570   出願人：株式会社神戸製鋼所
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-103757   出願人：ソニー株式会社
• 加速管
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-142902   出願人：日新電機株式会社