特許
J-GLOBAL ID：201103034808783555

ポリマー除去装置およびポリマー除去方法

発明者：
新藤 健弘

新藤 健弘 について

, 
近藤 昌樹

近藤 昌樹 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-189105
公開番号（公開出願番号）：特開2011-040670
出願日： 2009年08月18日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：
【課題】スループットが高く、かつ被処理基板の回転にともなうパーティクルの発生および熱ストレスによるポリマーの剥がれの発生を抑制しつつ被処理基板の周縁部に環状に付着したポリマーを除去すること。【解決手段】被処理基板Wの周縁部に環状に付着したポリマー2を除去するポリマー除去装置であって、周縁部に環状にポリマーが付着した被処理基板Wを収容する処理容器11と、被処理基板Wを載置する載置台12と、被処理基板Wに環状に付着したポリマー2にリング状レーザー光を一括照射するレーザー照射部20と、被処理基板Wに環状に付着した前記ポリマーにオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構15,19と、オゾンガスを排気する排気機構23,24とを具備する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理基板の周縁部に環状に付着したポリマーを除去するポリマー除去装置であって、 周縁部に環状にポリマーが付着した被処理基板を収容する処理容器と、 前記被処理基板を載置する載置台と、 前記被処理基板に環状に付着した前記ポリマーにリング状レーザー光を一括照射するレーザー照射部と、 前記被処理基板に環状に付着した前記ポリマーにオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構と、 オゾンガスを排気する排気機構と を具備することを特徴とするポリマー除去装置。
IPC (2件)：
H01L 21/302 ,  H01L 21/304
FI (4件)：
H01L21/302 201A ,  H01L21/304 645D ,  H01L21/304 645B ,  H01L21/304 648L
Fターム (37件)：
5F004AA09 ,  5F004BA19 ,  5F004BB03 ,  5F004BB18 ,  5F004BB31 ,  5F004DA27 ,  5F004DB23 ,  5F157AA12 ,  5F157AA14 ,  5F157AA42 ,  5F157AA63 ,  5F157AA93 ,  5F157AB02 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB77 ,  5F157BG03 ,  5F157BG49 ,  5F157BG72 ,  5F157BG85 ,  5F157BG97 ,  5F157BH19 ,  5F157CE11 ,  5F157CE28 ,  5F157CE76 ,  5F157CE77 ,  5F157CF20 ,  5F157CF38 ,  5F157CF40 ,  5F157CF66 ,  5F157CF72 ,  5F157DA21 ,  5F157DB46 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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