特許
J-GLOBAL ID：200903098388329381

基板洗浄装置,基板洗浄方法,基板処理装置

発明者：
川村 茂

川村 茂 について

, 
林 輝幸

林 輝幸 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大山 浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-074326
公開番号（公開出願番号）：特開2007-311768
出願日： 2007年03月22日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：
【課題】基板端部を研磨することなく,またプラズマを発生させることなく,基板端部全周の洗浄を簡単な制御で一度に行う。【解決手段】ウエハWを載置する載置台204と,ウエハ端部を加熱する加熱手段210と,ウエハ端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段220と,ウエハ端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段230とを設け,加熱手段と紫外線照射手段と流れ形成手段とはそれぞれ,ウエハ端部近傍にウエハを囲むように配置した。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
基板の端部に付着した付着物を除去するための基板洗浄装置であって, 前記基板を載置する載置台と, 前記基板の端部を加熱する加熱手段と, 前記基板の端部に向けて紫外線を照射する紫外線照射手段と, 前記基板の端部表面に気体の流れを形成する流れ形成手段とを備え, 前記加熱手段と前記紫外線照射手段と前記流れ形成手段とはそれぞれ,前記基板の端部近傍に前記基板を囲むように配置したことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  B08B 7/00 ,  B08B 5/00
FI (4件)：
H01L21/304 645D ,  H01L21/304 648G ,  B08B7/00 ,  B08B5/00 A
Fターム (10件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB42 ,  3B116BB22 ,  3B116BB32 ,  3B116BB72 ,  3B116BB82 ,  3B116BC01 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (8件)
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