特許
J-GLOBAL ID:201103035814430989

フェノール及びアセトン製造の高度に選択的な方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-568802
特許番号:特許第4558936号
出願日: 1999年09月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ジメチルベンジルアルコール(DMBA)含有の工業用クメンヒドロペルオキシド(CHP)をフェノール、アセトン及びα-メチルスチレン(AMS)に開裂するための2段階方法であって、 第1の段階として、 工業用等級クメンヒドロペルオキシド(CHP)を、一連の少なくとも3個の連続した反応器の少なくとも第1のものの中に導入すること、 47〜50°Cの温度範囲内の等温条件下で前記の少なくとも3個の連続した反応器中でクメンヒドロペルオキシド(CHP)を開裂して、第1の温度で第1の生成物流を生成すること(ただし前記の生成物流はジクミルペルオキシド(DCP)を含む)、並びに、 第2の段階として、 第1の生成物流を前記の第1の温度より50〜55°C高い第2の温度に加熱し、それにより加熱された第1の生成物流を生成すること、 加熱された第1の生成物流を、第2の段階での栓流反応器中に導入して、そこでジクミルペルオキシド(DCP)がフェノール、アセトン及びα-メチルスチレン含有の混合物に分解されること、を含んでなる方法。
IPC (6件):
C07C 1/20 ( 200 6.01) ,  C07C 15/44 ( 200 6.01) ,  C07C 27/00 ( 200 6.01) ,  C07C 39/04 ( 200 6.01) ,  C07C 49/08 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (6件):
C07C 1/20 ,  C07C 15/44 ,  C07C 27/00 310 ,  C07C 39/04 ,  C07C 49/08 A ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • プロセス
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-228829   出願人:ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ, イラ・インタナショナル・リミテッド
  • プロセス
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-322556   出願人:ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ, イラ・インタナショナル・リミテッド
  • クメンからフェノール及びアセトンを製造するための改良法
    公報種別:公表公報   出願番号:特願平10-527271   出願人:アイラインターナショナルリミテッド, フェノールヒェミーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフト
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審査官引用 (4件)
  • プロセス
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-228829   出願人:ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ, イラ・インタナショナル・リミテッド
  • プロセス
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-322556   出願人:ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ, イラ・インタナショナル・リミテッド
  • クメンからフェノール及びアセトンを製造するための改良法
    公報種別:公表公報   出願番号:特願平10-527271   出願人:アイラインターナショナルリミテッド, フェノールヒェミーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフト
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