成膜処理装置及び成膜処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-245836
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077109
特許番号：特許第4487338号
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】原料ガスと酸化剤ガスとを処理容器内に導入し、被処理体に所定の膜を成膜する成膜処理装置であって、前記原料ガスと酸化剤ガスとを前記処理容器内に導入可能に構成された処理ガス導入手段と、前記処理容器内を所定の真空度に排気可能に構成された排気手段と、成膜処理工程の際、第1の真空雰囲気時には、前記原料ガスを前記被処理体中央部付近に、かつ、前記酸化剤ガスを前記被処理体周辺部付近に供給し、さらに、第1の真空雰囲気により高圧の第2の真空雰囲気時には、前記原料ガスと前記酸化剤ガスとを前記被処理体略全面に対して供給可能に構成された、処理ガス供給手段と、を備えたことを特徴とする成膜処理装置。

IPC (3件)：