特許
J-GLOBAL ID：201103036320063149
加圧ガス容器を充填する装置、それを含むシステム及び加圧ガス容器を充填する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
石田 敬
, 鶴田 準一
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-219185
公開番号（公開出願番号）：特開2002-089796
特許番号：特許第4455784号
出願日： 2001年07月19日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 高圧ガス源から加圧ガス容器(36)を充填する装置において、該装置が、
少なくとも一つの高圧ガス源と、
該高圧ガス源とガスが流れるように連通している管路手段と、
該管路手段に接続されている第2のガス流れ制御ユニット(3)と、
前記高圧ガス源と前記第2のガス流れ制御ユニット(3)の間に配置され、該高圧ガス源のガス圧力を前記加圧ガス容器(36)の要求圧力まで減圧するレギュレータと、
前記第2のガス流れ制御ユニット(3)と、これと協働し、前記加圧ガス容器(36)から又はそこへの加圧ガスの流れを制御するための第1のガス流れ制御ユニット(1)とを互いに圧着係合させる手段とを具備し、
前記第2のガス流れ制御ユニット(3)が、該第2のガス流れ制御ユニット(3)を高圧ガス源とガスが流れるように連通させるべく取り付けるための第2の弁ハウジング(38)を具備し、該第2の弁ハウジング(38)が第2のガス流れ通路(40)を有し、第2のガス流れ制御ユニット(3)が更に、該第2のガス流れ通路(40)を開閉するために該第2のガス流れ通路(40)内に配置された第2の弁(42)を具備し、該第2の弁(42)は使用時に閉弁位置に付勢され、第2のガス流れ制御ユニット(3)が更に、該第2の弁(42)を開弁させるために移動可能でありかつ第2の表面を有する第2の挿入体(56)を具備し、該第2の表面が該第2の挿入体(56)の端壁(72)によって形成され、
前記第1のガス流れ制御ユニット(1)が、該第1のガス流れ制御ユニット(1)を加圧ガス容器(36)の内部とガスが流れるように連通させるべく取り付けるための第1の弁ハウジング(2)を具備し、該第1の弁ハウジング(2)が第1のガス流れ通路(4)を有し、第1のガス流れ制御ユニット(1)が更に、該第1のガス流れ通路(4)を開閉するために該第1のガス流れ通路(4)内に配置された第1の弁(6)を具備し、該第1の弁(6)は使用時に閉弁位置に付勢され、第1のガス流れ制御ユニット(1)が更に、該第1の弁(6)を開弁させるために移動可能でありかつ第1の表面を有する第1の挿入体(22)を具備し、該第1の表面が該第1の挿入体(22)上に取り付けられたフランジ(26)によって形成され、
前記第1及び第2の挿入体(22,56)が、前記第1及び第2のガス流れ通路(4,40)をガスが流れるように連通させるために該第1及び第2の挿入体(22,56)内に形成されたガス流れ通路を具備し、
前記第1及び第2のガス流れ制御ユニット(1,3)が互いに圧着係合され、かつ前記端壁(72)と前記フランジ(26)が互いに係合してそれぞれ対応する弁(6,42)を開弁位置に移動させたときに、ガスが高圧ガス源から前記管路手段並びに第1及び第2のガス流れ制御ユニット(1,3)を介し、前記加圧ガス容器(36)内に流入するようにした装置。
IPC (3件)：
F17C 13/04 ( 200 6.01)
, F17C 13/00 ( 200 6.01)
, F16K 15/18 ( 200 6.01)
F17C 13/04 301 C
, F17C 13/00 301 C
, F16K 15/18 D
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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