位置計測方法および該位置計測法を用いた半導体露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-084052
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275010
特許番号：特許第4046884号
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被検出物体上に形成されたマークから得られるマーク波形とテンプレート波形との一致度に基づいて該マークの位置を計測する位置計測方法において、該マーク波形と該テンプレート波形との波形差を予め設定された関数で近似し、該近似された関数に基づいて該マーク波形および該テンプレート波形の一方又は両方を補正し、該補正されたマーク波形およびテンプレート波形の一方又は両方を用いて該マークの位置を求める、ことを特徴とする位置計測方法。

IPC (2件)：