特許
J-GLOBAL ID：201103036830824934
収束イオンビームによる精密断面加工を用いた深さ方向元素分布分析方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-357438
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174421
特許番号：特許第3297736号
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 収束イオンビーム(2’)を用いて、深さ方向の速度成分(VZ)が、該収束イオンビーム走査の試料幅方向の速度成分(VX)に対して1000分の1以下であるようなshave-off走査をすることにより、試料を完全に削り飛ばしながら試料の深さ方向に垂直でノックオンミキシングならびにスパッタ再付着の影響の少ないshave-off断面を連続的かつ精密に削り出すところの精密断面加工をする工程と、前記精密断面加工中に発生した微粒子(3)の強度、あるいは他のプローブを用いて前記精密断面加工で得られたshave-off断面から発生させた微粒子の強度を測定する工程と、前記測定によって得た値を前記収束イオンビームの深さ方向走査位置の関数として処理する工程と、を具備することを特徴とする、試料の深さ方向元素分布分析を行う方法。
IPC (2件)：
G01N 23/225
, G01N 23/227
G01N 23/225
, G01N 23/227
