特許
J-GLOBAL ID：200903090956151818
表面分析用試料及びその作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-029027
公開番号（公開出願番号）：特開平10-227728
出願日： 1997年02月13日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】 特定箇所の内部を分析する場合に、露出させた断面に対して垂直方向から直接分析することができる表面分析(EPMA分析およびオージェ分析)用の試料およびその作成方法の提供する。【解決手段】 特定箇所1の近傍(〜10μm手前)において試料2をダイシングソー等によって切断した後、その切断面4から集束イオンビーム(FIB)6によって掘削を始め、最終的に特定箇所1の断面3を露出させる。
請求項（抜粋）：
集束イオンビームで掘削することによって特定箇所の断面を露出させる試料作製方法において、特定箇所の近傍で試料の不要部分を切断した後、その切断面から特定箇所まで集束イオンビームで掘削し、特定箇所の断面を露出させることを特徴とする表面分析用試料の作製方法。
IPC (5件)：
G01N 1/28
, G01N 1/32
, G01N 23/225
, G01N 23/227
, H01L 21/66
G01N 1/28 G
, G01N 1/32 B
, G01N 23/225
, G01N 23/227
, H01L 21/66 N
