特許
J-GLOBAL ID：201103037021351185
リソグラフィー用ペリクルおよびペリクル膜の反りの緩和方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-107647
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290259
特許番号：特許第4082845号
出願日： 2000年04月10日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィー用ペリクルのペリクル膜としてガラス板を使用するペリクルにおいて、ガラス板に予め反りを形成し、該ガラス板の凸面が上方になるようにペリクルフレームに貼り付けて成ることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
