特許
J-GLOBAL ID:201103037359421600
シクロドデセンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-183430
公開番号(公開出願番号):特開2002-003414
特許番号:特許第3861567号
出願日: 2000年06月19日
公開日(公表日): 2002年01月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】シクロドデカトリエンをルテニウム触媒存在下、部分水素化してシクロドデセンを製造するにあたり、シクロドデカトリエン及びシクロドデカトリエンと不均一系を形成する極性溶媒並びに水溶性ルテニウム錯体触媒を含む反応条件下で、シクロドデカトリエンと水素を反応させることを特徴とするシクロドデセンの製造方法。
IPC (5件):
C07C 5/05 ( 200 6.01)
, B01J 31/24 ( 200 6.01)
, B01J 31/26 ( 200 6.01)
, C07C 13/275 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
C07C 5/05
, B01J 31/24 X
, B01J 31/26 X
, C07C 13/275
, C07B 61/00 300
引用特許: