特許

J-GLOBAL ID：201103039152387943

近視野光発生素子の作製方法

発明者： 笠間 宣行 ,  大海 学 ,  光岡 靖幸 ,  前田 英孝 ,  加藤 健二 ,  新輪 隆 ,  篠原 陽子
出願人/特許権者： セイコーインスツル株式会社
代理人 (1件)： 松下 義治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-308564
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114183
特許番号：特許第3892264号
出願日： 2001年10月04日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 光伝搬体表面の開口の内部に、光を照射することによりプラズモンを生成する微小散乱体をもつ近視野光発生素子の作製方法において、 前記光伝搬体の表面に前記微小散乱体を形成する微小散乱体形成工程と、 前記光伝搬体の屈折率より低い低屈折率材を前記光伝搬体に接触させ、前記光伝搬体と前記低屈折率材との界面での全反射条件を満たす露光光束をもちいて前記微小散乱体を覆うように前記光伝搬体の表面に微小散乱体マスク部を形成する微小散乱体マスク部形成工程と、 前記微小散乱体マスク部周囲の前記光伝搬体の表面を遮光し、前記微小散乱体マスク部を除去することで前記開口を形成する開口形成工程と、 を含むことを特徴とする近視野光発生素子の作製方法。

IPC (1件)：

G01N 13/14 ( 200 6.01)

FI (1件)：

G01N 13/14 B

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 露光体およびこの露光体を用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-005358   出願人：株式会社ニコン
• 近接場光プローブおよびそれを用いた近接場光学顕微鏡および光記録/再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-073922   出願人：株式会社日立製作所
• 微細パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-119670   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 露光フィルター、パターン形成方法および露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-159184   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (2件)

• 露光体およびこの露光体を用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-005358   出願人：株式会社ニコン
• 近接場光プローブおよびそれを用いた近接場光学顕微鏡および光記録/再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-073922   出願人：株式会社日立製作所

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Numerical Simulation on Read-Out Characteristics of the Planar Aperture-Mounted Head with a Minute S