特許
J-GLOBAL ID：200903003863068767
露光フィルター、パターン形成方法および露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-159184
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284245
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：
【要約】【課題】 露光光量が十分に取れ、短時間でパターン形成が可能な露光フィルター、パターン形成方法および露光装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも、透明体11と、該透明体11上に形成された、貴金属微粒子13からなるパターンと、該貴金属微粒子13に透明基板11側から全反射モ-ドで光を照射するための手段を有することを特徴とする露光フィルター。
請求項（抜粋）：
透明体と、該透明体上に形成された、貴金属微粒子からなるパターンと、該貴金属微粒子に前記透明基板側から全反射モ-ドで光を照射するための手段を有することを特徴とする露光フィルター。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 D
5F046BA01
, 5F046BA02
, 5F046BA10
, 5F046CB08
, 5F046CB10
, 5F046CB23
