プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：前田弘 , 竹内祐二 , 米田圭啓 , 小池隆彌
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174909
公開番号（公開出願番号）：特開2001-003175
特許番号：特許第3662779号
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プラズマを生じさせるプラズマチャンバと、前記プラズマチャンバに接続され、前記プラズマチャンバで生じたプラズマによってプラズマ処理される被処理基板が内部に配置されるプロセスチャンバと、を備えたプラズマ処理装置であって、前記プラズマチャンバは、前記プロセスチャンバに下部伸縮機構を介して昇降可能に接続されると共に反応ガス供給手段が設けられた下部プラズマチャンバと、前記下部プラズマチャンバに上部伸縮機構を介して昇降可能に接続されると共に励起ガス供給手段が設けられた上部プラズマチャンバとにより構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：