特許
J-GLOBAL ID:201103039995948319

プラスチック容器への薄膜成膜方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-334375
公開番号(公開出願番号):特開2003-138377
特許番号:特許第4089203号
出願日: 2001年10月31日
公開日(公表日): 2003年05月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 内部中空部が円筒形状をした外部電極の中に、内部中空部が円筒形状となっている容器本体に、内部が中空となっている取っ手部がその両端で互いに繋がっていると共に、それぞれの中空部が繋がっている取って付きのプラスチック容器を設置した後、プラスチック容器内部に外形が円筒形状をした内部電極を挿入し、さらにプラスチック容器内面と内部電極間に原料ガスを供給し、しかる後に前記各電極間に高周波を印加して原料ガスをプラズマ化することにより、プラスチック容器内面に薄膜を形成する成膜方法において、プラスチック容器内部の所定位置にガス流量調節弁を位置させると共に、このガス流量調節弁により取っ手部と容器本体の内面を通過する原料ガスの流量が同じになるように調整することを特徴とするプラスチック容器への薄膜成膜方法。
IPC (2件):
C23C 16/44 ( 200 6.01) ,  B65D 1/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
C23C 16/44 B ,  B65D 1/00 C
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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