特許
J-GLOBAL ID:201103041151827103

トンネル構造体の覆工構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  中川 博司 ,  舘 泰光 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-140817
公開番号(公開出願番号):特開2001-323794
特許番号:特許第4143793号
出願日: 2000年05月12日
公開日(公表日): 2001年11月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 トンネル構造体の内側に間隙を介して覆工体を配するとともに、前記間隙に中詰材を充填されるトンネル構造体の覆工構造であって、 前記トンネル構造体の内側底部にトンネル軸方向に延びる排水路が形成され、前記トンネル構造体の内周面において、トンネル円周方向に帯状のドレン部材が張設されるとともに、前記排水路に接続されており、該排水路は帯状プレートにより形成され、該帯状プレートには、上に載る中詰材の荷重に耐える強度を持たせるための支持プレートが固定されていることを特徴とするトンネル構造体の覆工構造。
IPC (3件):
E21D 11/04 ( 200 6.01) ,  E21D 11/38 ( 200 6.01) ,  E21F 16/02 ( 200 6.01)
FI (3件):
E21D 11/04 Z ,  E21D 11/38 Z ,  E21F 16/02
引用特許:
審査官引用 (7件)
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