特許
J-GLOBAL ID：201103042867076350

酸発生剤用の塩及びレジスト組成物

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
杉原 昌子

杉原 昌子 について

, 
増山 達郎

増山 達郎 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-120685
公開番号（公開出願番号）：特開2011-006398
出願日： 2010年05月26日
公開日（公表日）： 2011年01月13日
要約：
【課題】優れた解像度、マスクエラーファクター及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式(I-AA)で表される塩。[式中、Q1及びQ2は、F原子又はペルフルオロアルキル基;X1は、単結合又は-[CH2]k-、kは1〜17の整数;Y1は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基;A1及びA2は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基か、A1とA2とが一緒になって環を形成してもよい;Ar1は(m4+1)価の芳香族炭化水素基;B1は、単結合又はアルキレン基;B2は、酸の作用により脱離し得ない基を表し、かつ置換されていてもよいラクトン環を表す;m1及びm2は0〜2、m3は1〜3、m4は1〜3の整数を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I-AA)で表される塩。
IPC (4件)：
C07D 307/33 ,  C07C 309/17 ,  C09K 3/00 ,  C07D 307/93
FI (4件)：
C07D307/32 Q ,  C07C309/17 ,  C09K3/00 K ,  C07D307/93
Fターム (5件)：
4C037FA10 ,  4C037UA04 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81
引用特許：
審査官引用 (4件)
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