感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-379028
公開番号（公開出願番号）：特開2007-178848
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物であって、通常露光及び液浸露光に於ける、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つEUV光露光に於ける、感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物を提供する。【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)で表されるスルホニウム塩化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (10件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025FA12

引用特許：

出願人引用 (18件)

化学増幅型ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-315265 出願人：住友化学工業株式会社
ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法
公報種別：再公表公報出願番号：JP2004002179 出願人：東京応化工業株式会社
国際公開WO2004-068242号パンフレット

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審査官引用 (12件)

特表平4-502374
感エネルギー線酸発生剤、酸の発生方法、および感エネルギー線硬化性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-187452 出願人：東洋インキ製造株式会社
感刺激性組成物及び化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-068447 出願人：富士写真フイルム株式会社

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引用文献：

出願人引用 (3件)

審査官引用 (3件)

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