表面欠陥検査方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田渕経雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-237958
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059717
特許番号：特許第3757694号
出願日： 1999年08月25日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】明暗パターンを有した光源を検査表面に写し出してカメラを介してコンピュータに画像取込みする工程と、取り込んだ画像の濃度ヒストグラムを作成する工程と、前記画像の濃度ヒストグラムにより欠陥を抽出する工程と、を有し、前記画像の濃度ヒストグラムにより欠陥を抽出する工程が、前記画像の濃度ヒストグラムのうち欠陥が含まれる所定濃度域を決定する工程と、前記所定濃度域以外の濃度のピクセルの濃度を真黒または真白に対応する濃度値として前記所定濃度域内の濃度をもつピクセルに基づいて欠陥および一部のゆず肌ノイズのみからなる画像を作成する工程と、を有する表面欠陥検査方法。

IPC (2件)：