特許
J-GLOBAL ID：201103044124842159

処理装置及び処理方法

発明者：
小濱 恭司

小濱 恭司 について

, 
新保 栄二

新保 栄二 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119957
公開番号（公開出願番号）：特開2000-308859
特許番号：特許第3910757号
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を囲んで液処理する外洗浄室と,この外洗浄室内に進退自在に構成され,外洗浄室内において基板を囲んで液処理する内洗浄室と,外洗浄室内に内洗浄室を進入させた状態と,内洗浄室を外洗浄室内から退出させた状態とに切り換える移動手段とを備えた処理装置であって, 前記外洗浄室内に収納された基板を保持する保持具と,前記外洗浄室を開放・閉鎖する蓋体を備え, 前記外洗浄室内に内洗浄室を進入させた状態において,内洗浄室の雰囲気を外洗浄室に漏れないようにさせるシール部を設け, 前記外洗浄室の底部と前記内洗浄室の底部に排液口をそれぞれ設けたことを特徴とする,処理装置。
IPC (3件)：
B08B 3/04 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  H01L 21/306 ( 200 6.01)
FI (4件)：
B08B 3/04 Z ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 648 H ,  H01L 21/306 J
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 特開昭58-210624
  • ウェーハ湿式処理装置及び方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-355787   出願人：エルジーセミコンカンパニーリミテッド
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-155904   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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審査官引用 (6件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-155904   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭58-210624
  • ウェーハ湿式処理装置及び方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-355787   出願人：エルジーセミコンカンパニーリミテッド
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