膜厚測定装置および膜厚測定方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：秋山敦 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-312118
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133228
特許番号：特許第3306394号
出願日： 1999年11月02日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】モニタ基板に成膜された光学薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、該膜厚測定装置は、複数のモニタ基板を備えるモニタ基板保持手段と、該モニタ基板保持手段を部分的に遮蔽するモニタシールドと、前記モニタ基板を部分的に遮蔽するマスクと、前記モニタ基板に測定光を投光する投光手段と、前記モニタ基板の反射光又は透過光を受光する受光手段と、前記投光手段及び前記受光手段に接続され前記投光手段及び前記受光手段との間で光の授受を行う制御装置と、を備え、前記モニタ基板保持手段には、該モニタ基板保持手段を可動可能にするモニタ基板保持手段駆動手段が設けられ、前記モニタ基板には、該モニタ基板を前記モニタ基板保持手段に対して可動可能とするモニタ基板駆動手段が設けられることを特徴とする膜厚測定装置。

IPC (2件)：

G01B 11/06 , C23C 14/54

FI (2件)：

G01B 11/06 Z , C23C 14/54 C

引用特許：

出願人引用 (8件)

膜厚モニタ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-237489 出願人：旭光学工業株式会社
特開昭51-120238
特開昭56-060310

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