特許
J-GLOBAL ID:201103044778966850
光記録システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
宇都宮 正明
, 渡部 温
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-147254
公開番号(公開出願番号):特開2002-341551
特許番号:特許第4526732号
出願日: 2001年05月17日
公開日(公表日): 2002年11月27日
請求項(抜粋):
【請求項1】 光ビームを照射することにより画像を記録する感光材料を含む層が基材上に形成された光記録媒体であって、該感光材料を含む層の厚さが15nm以下である光記録媒体と、
パルス照射周期が1μ秒以下であり、デューティが1%以下のパルス光を順次出力する光源と、
前記光源から出力されたパルス光を画像信号により変調して前記感光材料を含む層に照射する変調手段と、
前記感光材料を含む層上で該パルス光を走査させることにより画像を記録する走査手段と、
を具備する光記録システム。
IPC (4件):
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, B41C 1/055 ( 200 6.01)
, B41M 5/26 ( 200 6.01)
, G03F 7/24 ( 200 6.01)
FI (5件):
G03F 7/20 505
, G03F 7/20 511
, B41C 1/055 501
, B41M 5/26 S
, G03F 7/24 G
引用特許:
出願人引用 (9件)
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パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-084366
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭62-241330
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微細加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-183615
出願人:財団法人神奈川科学技術アカデミー
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審査官引用 (12件)
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特開平2-244611
-
パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-084366
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭62-241330
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