イオンビーム装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-034258
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231886
特許番号：特許第3544483号
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】フィラメントで発生した電子をガスに照射することによりガスをイオン化し、イオン引出手段に加速電圧を印加してイオンをイオン銃から取り出すように構成したイオンビーム装置を備えた表面分析装置であって、前記加速電圧が印加されていない時のエミッション電流量が、加速電圧が印加されている時のエミッション電流量より少なくなるように、前記フィラメントが加熱制御される表面分析装置。

IPC (4件)：