特許
J-GLOBAL ID：201103046386075712

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法

発明者：
山口 修平

山口 修平 について

, 
渋谷 明規

渋谷 明規 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-150181
公開番号（公開出願番号）：特開2011-032263
出願日： 2010年06月30日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：
【課題】通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する一般式(I)で表される化合物、及び、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(一般式(I)における各符号は本明細書及び特許請求の範囲に記載の意味を表す。)【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する一般式(I)で表される化合物、及び、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
IPC (13件)：
C07C 381/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C09K 3/00 ,  C07D 333/46 ,  C07D 335/02 ,  C07D 217/08 ,  C07D 295/08 ,  C07D 215/58 ,  C07D 295/18 ,  C07C 309/06 ,  C07C 309/17 ,  C07C 311/48
FI (14件)：
C07C381/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C09K3/00 K ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D217/08 ,  C07D295/08 Z ,  C07D215/58 ,  C07D295/18 Z ,  C07C309/06 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48
Fターム (52件)：
2H125AF17P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH11 ,  2H125AH14 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM27P ,  2H125AM32P ,  2H125AM43P ,  2H125AM46P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN87P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C023JA05 ,  4C031QA01 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006TN30
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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