特許
J-GLOBAL ID：200903073059365064
液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-229094
公開番号（公開出願番号）：特開2008-052102
出願日： 2006年08月25日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：
【課題】波長193nmにおける液浸露光時に接触した水などの液浸露光用液体への溶出物の量が少ない。【解決手段】波長193nmにおける屈折率が空気よりも高い液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有し、該感放射線性酸発生剤(B)が下記式(1)で表される化合物を含有する。 各R1は相互に独立に炭素数1〜8のパーフルオロもしくは部分的にフッ素化された直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、または互いのR1が結合したフッ素化アルキレン基を表し、3つのR2は少なくとも1つのR2が炭素数1〜10の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を表し、残りのR2は水素原子を表す。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レンズとフォトレジスト膜との間に、波長193nmにおける屈折率が空気よりも高い液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、前記フォトレジスト膜を形成する感放射線性樹脂組成物が、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有し、該感放射線性酸発生剤(B)が下記式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする液浸露光用感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA00
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BG00
, 2H025FA01
, 2H025FA08
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096DA10
, 2H096EA05
, 2H096EA11
, 2H096FA01
, 2H096GA08
