特許
J-GLOBAL ID：201103046606232032
磁気ディスク基板研磨液
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小野 尚純
, 奥貫 佐知子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-374765
公開番号（公開出願番号）：特開2003-178430
特許番号：特許第3680022号
出願日： 2001年12月07日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 シリカ粒子の粒径が20〜100nmであるコロイダルシリカを50〜200g/L、過酸化水素及び硝酸アンモニウムから成る酸化剤を5〜20g/L、およびシュウ酸,シュウ酸ナトリウムまたはシュウ酸カリウムをシュウ酸イオンとして0.05〜1モル/L含有してなることを特徴とする磁気ディスク基板研磨液。
IPC (4件)：
G11B 5/84
, B24B 1/00
, B24B 37/00
, C09K 3/14
G11B 5/84 Z
, B24B 1/00 D
, B24B 37/00 H
, C09K 3/14 550 D
, C09K 3/14 550 Z
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
