パターン形成材料及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：前田弘 , 小山廣毅 , 竹内宏 , 嶋田高久 , 竹内祐二 , 今江克実 , 手島勝 , 藤田篤史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-277597
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084439
特許番号：特許第4516250号
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 [化2]で表わされるユニットと[化3]で表わされるユニットとを含むベース樹脂と、酸発生剤とを有するパターン形成材料。 (但し、R1は、酸により脱離する保護基であり、 R2は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素原子を含むアルキル基であり、 R3は、アルキル基、環状脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環、エステル基又はエーテル基であり、 mは、0〜5の整数であり、 a及びbは、0<a<1、0<b<1及び0<a+b≦1を満たす。)

IPC (2件)：