特許
J-GLOBAL ID：200903000093701858

ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法

発明者：
堤 憲太郎

堤 憲太郎 について

, 
大谷 充孝

大谷 充孝 について

, 
前田 一彦

前田 一彦 について


出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-338701
公開番号（公開出願番号）：特開2001-154362
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】【課題】 酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化するアクリル系樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、真空紫外領域のレーザー光に使用するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】アクリル系樹脂として、構成単位として、フッ素原子を有する基をエステル部位とするアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル単位を含む重合体を使用する。
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化するアクリル系樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、アクリル系樹脂が、構成単位として、フッ素原子を有する基をエステル部位とするアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル単位を含む重合体であることを特徴とする真空紫外領域のレーザー用ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/22 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/22 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (30件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AC27Q ,  4J100AC43Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL46Q ,  4J100AM15Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB17P ,  4J100BB17Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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