特許
J-GLOBAL ID：201103048559574178

渦流循環型クーラント浄化装置

発明者：
小楠 倫嗣

小楠 倫嗣 について


出願人/特許権者：
株式会社小楠金属工業所

株式会社小楠金属工業所 について


代理人 (1件)： 越川 隆夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-379616
公開番号（公開出願番号）：特開2003-175437
特許番号：特許第3897587号
出願日： 2001年12月13日
公開日（公表日）： 2003年06月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 加工装置から排出されスラッジ等が混入したクーラントを渦流にて浄化し、再び加工装置に送り込むことにより当該クーラントを循環利用するための渦流循環型クーラント浄化装置において、 断面が略円形状であり、前記加工装置から導かれたクーラントを渦流状態で収容するとともに、中央底面から吐出させる吐出口を有する第1クーラント槽と、 該第1クーラント槽の少なくとも側方及び下方を囲む略円筒形状から成り、当該第1クーラント槽の外側でクーラントを渦流状態で収容するとともに、下方で第1クーラント槽の前記吐出口に連通した第2クーラント槽と、 前記吐出口から吐出されたクーラントを導くとともに、そのクーラントを前記第2クーラント槽に導入する流通路と、 前記第2クーラント槽の内壁近傍における清浄度の高いクーラントを前記加工装置に送り込む循環路と、 前記流通路を流通するクーラントを渦流を生じさせつつ導入し、上方の清浄度の高いクーラントを前記第2クーラント槽に導く一方、下方から吐出した清浄度の低いクーラントを前記第1クーラント槽に導くトルネード式浄化装置と、 を備えたことを特徴とする渦流循環型クーラント浄化装置。
IPC (7件)：
B23Q 11/00 ( 200 6.01) ,  B01D 21/02 ( 200 6.01) ,  B03C 1/00 ( 200 6.01) ,  B03C 1/02 ( 200 6.01) ,  B04C 5/04 ( 200 6.01) ,  B04C 9/00 ( 200 6.01) ,  B24B 55/03 ( 200 6.01)
FI (7件)：
B23Q 11/00 U ,  B01D 21/02 N ,  B03C 1/00 A ,  B03C 1/02 Z ,  B04C 5/04 ,  B04C 9/00 ,  B24B 55/03
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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