特許
J-GLOBAL ID:201103048569411978
光学積層体およびその製造方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
, 佐々木 眞人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-142108
公開番号(公開出願番号):特開2010-286764
出願日: 2009年06月15日
公開日(公表日): 2010年12月24日
要約:
【課題】偏光板と液晶セル基板とを、接着剤を介して積層した、薄型軽量性および耐久性能に優れる光学積層体およびその製造方法を提供する。【解決手段】液晶セル基板1と、液晶セル基板1の表面に接触して積層され、分子内に少なくとも1個のエポキシ基を有するエポキシ系化合物を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物からなる接着剤層2と、接着剤層2の表面に接触して積層され、ポリビニルアルコール系樹脂に二色性色素が吸着配向された偏光フィルムを有する厚さが100μm以下である偏光板5と、を備える光学積層体10およびその製造方法である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
液晶セル基板と、
前記液晶セル基板の表面に接触して積層され、分子内に少なくとも1個のエポキシ基を有するエポキシ系化合物を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物からなる接着剤層と、
前記接着剤層の表面に接触して積層され、ポリビニルアルコール系樹脂に二色性色素が吸着配向された偏光フィルムを有する厚さが100μm以下である偏光板と、
を備える、光学積層体。
IPC (2件):
FI (2件):
G02F1/1335 510
, G02B5/30
Fターム (29件):
2H149AA02
, 2H149AB11
, 2H149AB22
, 2H149AB23
, 2H149BA02
, 2H149BA14
, 2H149CA02
, 2H149EA12
, 2H149EA22
, 2H149FA03W
, 2H149FA08X
, 2H149FA58Z
, 2H149FA63
, 2H149FA68
, 2H149FD47
, 2H191FA22X
, 2H191FA22Z
, 2H191FA94X
, 2H191FA94Z
, 2H191FA95X
, 2H191FA95Z
, 2H191FB04
, 2H191FC33
, 2H191FD07
, 2H191FD35
, 2H191GA22
, 2H191GA23
, 2H191HA07
, 2H191LA11
引用特許:
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