薄膜形成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宇高克己
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-080506
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273641
特許番号：特許第3109508号
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板と、この基板を保持する基板ホルダ装置と、この基板ホルダ装置によって保持された基板の表面にガス雰囲気を付与し、この雰囲気ガスの分解により前記基板上に薄膜を形成する為の装置とを具備した薄膜形成装置において、前記保持される基板の周囲に沿って基板ホルダ装置には溝が設けられてなり、前記溝を介して雰囲気ガスを排気できるよう構成すると共に、前記基板ホルダ装置によって保持された基板の上面と前記基板ホルダ装置の上面とがほぼ同一平面上にあるよう構成したことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (4件)：