カーボンナノチューブ薄膜形成装置及び形成方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：清水善廣 , 阿部伸一 , 辻田幸史 , 田代作男 , 町田悦夫 , 打揚洋次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-242086
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064775
特許番号：特許第4357661号
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空成膜室と、該成膜室内に炭素含有ガスを供給するためのガス供給系と、該成膜室内にプラズマを発生させるためのマイクロ波発生系と、バイアス電源とを有する、マイクロ波電力供給可能な薄膜形成装置であって、該マイクロ波発生系によるマイクロ波の発振出力が時間的に変調された半波整流であることを特徴とするカーボンナノチューブ薄膜形成装置。

IPC (2件)：