露光用フォトマスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋文雄 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-286716
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099070
特許番号：特許第3518497号
出願日： 2000年09月21日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】紫外光により感光性樹脂を複数の膜厚を有するようパターニングする際に用いられ、前記感光性樹脂のパターニングを行う露光機の解像度以下の寸法で形成された遮光部と非遮光部とを繰り返して形成した露光用フォトマスクであって、上下左右に隣接する前記遮光部が、この遮光部の大きさ以内でずらして配置されたパターンを有する露光用フォトマスク。

IPC (2件)：