特許
J-GLOBAL ID:201103051631227780
レアメタルの製造方法及び製造システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
波多野 久
, 関口 俊三
, 猿渡 章雄
, 河村 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-142565
公開番号(公開出願番号):特開2010-285680
出願日: 2009年06月15日
公開日(公表日): 2010年12月24日
要約:
【課題】一連のプロセスにおいてレアメタルを単離・回収することを可能とし、二次廃棄物の発生量を低減させるレアメタルの製造技術を提供する。【解決手段】電解質溶液を電解して陰電極にRe酸化物を採取する工程(S15)と、前記Re酸化物を回収し溶融塩電解質において電解してRe金属を採取する工程(S17)と、Nd含有残渣液を回収する工程(S21)と、前記Nd含有残渣液を処理してNd酸化物を生成する工程(S22〜S26)と、前記Nd酸化物を溶融塩電解質において電解してNd金属を採取する工程(S27)と、Dy含有残渣液を回収する工程(S31)と、前記Dy含有残渣液を処理してDy酸化物を生成する工程(S32〜S34)と、前記Dy酸化物を溶融塩電解質において電解してDy金属を採取する工程(S35)と、を含む。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
少なくともRe元素が含まれる電解質溶液を電解して陰電極にRe酸化物を採取する工程と、
前記Re酸化物を回収する工程と、
前記Re酸化物を第1溶融塩電解質において電解して陰電極でRe金属を採取する工程と、を含むことを特徴とするレアメタルの製造方法。
IPC (5件):
C25C 3/34
, C22B 3/44
, C22B 59/00
, C25C 7/06
, C25B 1/00
FI (5件):
C25C3/34 Z
, C22B3/00 T
, C22B59/00
, C25C7/06 302
, C25B1/00 A
Fターム (27件):
4K001AA39
, 4K001BA01
, 4K001BA16
, 4K001DB21
, 4K021AB17
, 4K021BA01
, 4K021BC07
, 4K021DB18
, 4K021DC15
, 4K058AA13
, 4K058AA17
, 4K058BA15
, 4K058BA26
, 4K058BB05
, 4K058CB04
, 4K058CB05
, 4K058CB06
, 4K058CB12
, 4K058EB14
, 4K058EB20
, 4K058ED03
, 4K058ED04
, 4K058FA02
, 4K058FA17
, 4K058FC02
, 4K058FC11
, 4K058FC21
引用特許:
出願人引用 (9件)
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金属の回収方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-292757
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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希少元素電析電極を用いる電解水素製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-400038
出願人:核燃料サイクル開発機構
-
希土類金属の回収方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-111503
出願人:国立大学法人大阪大学, 国立大学法人京都大学
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